비 전공자도 쉽게 이해할 수 있는 반도체 식각 공정(Etch Process) 습식 식각 공정은 무엇인가?습식 식각 공정이란 무엇일까요? 습식 식각 공정이란 반도체 제조 공정에서 활용되는 공정 중 하나에 속하며, 현재 반도체 소자의 특정 영역을 선택적으로 제거하는 데 활용되고 있습니다. 습식 식각 공정은 식각 용액을 통해 웨이퍼 표면으로 화학물질들이 확산하고, 반응이 일어납니다. 앞선 화학 반응으로 생긴 생성물이 제거됨으로써 공정이 이루어집니다. 습식 식각 공정의 주요 특징으로는 액체 화학 약품(식각 용액)을 사용하여, 웨이퍼 표면에서의 화학 반응을 통해 불필요한 영역을 제거합니다. 제거된 영역은 원하는 패턴을 구현할 수 있습니다. 화학 반응을 통해 특정 영역을 선택적으로 제거함으로써 미세하고 정확한 패턴을 구현하는 데 큰 역할 합니다. 온도나 공정 방식 등의 조건 변화를 통해 .. 2024. 1. 23. Prev Next
